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              氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 ALN Heater  發熱片 25*25*2.5

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              氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Heater
              氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁

              氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁

              氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁
              12寸 半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

              12寸 半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

              12寸 半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
               氮化鋁陶瓷 半導體用氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck

              氮化鋁陶瓷 半導體用氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck

              氮化鋁陶瓷加熱器(AlN Ceramic Heating for Semiconductor),使用高導熱AlN,通過電阻加熱元件的均勻燒結提供出色的溫度一致性,并顯著減少金屬污染和雜質。 具有優異的耐熱性,高機械強度,耐磨性和小介電損耗。 AlN襯底的表面非常光滑,孔隙率低。 與氧化鋁基材相比,氮化鋁具有較高的導熱性,其高約7至8倍。 ALN襯底是優異的電子封裝材料。ALN襯底應用廣泛,包括薄膜和厚膜微電子,大功率和高頻電路RF /微波部件和電容器或電阻器等。
              PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

              PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤

              半導體晶圓,芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
              半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤  氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷Ceramic Vacuum Table

              半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷Ceramic Vacuum Table

              半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷 訂制各種規格微孔陶瓷,氧化鋁陶瓷。 形狀圓形,方形,回形,L形等勻可訂做,厚度3MM到10MM不等。
              晶圓劃片刀

              晶圓劃片刀

              主要切割產品: 硅晶片、半導體化合物晶片(GaAs、GaP等)、氧化物晶片(LiTaO3等)、芯片LED基板、各種半導體封裝元件
              半導體 esc靜電吸盤 PVD加熱盤

              半導體 esc靜電吸盤 PVD加熱盤

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              空氣凈化


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